一、電子半導體行業(yè)（超純水制備）鈣鎂離子控制技術

1. 核心控制目標

• 水質標準：需達到 電子級超純水（EW-I 級），鈣鎂離子濃度≤0.0001mg/L（0.1μg/L），電阻率≥18.2MΩ?cm（25℃）。

• 關鍵要求：無顆粒、無有機物、無離子殘留，避免影響晶圓電路性能或導致芯片良率下降。

2. 核心控制技術（多工藝組合）

二、鈣鎂離子在線式分析儀在電子半導體行業(yè)（超純水制備）的作用

1、核心作用：實時監(jiān)控，守住純度底線

1. 實時預警，避免批量污染

   超純水制備流程（如 RO - 混床 - EDI）中，任一環(huán)節(jié)異常（如樹脂失效、膜破損）都會導致鈣鎂離子突升。在線式分析儀可每秒采集數(shù)據(jù)，當濃度超過閾值（如 0.08μg/L）時，立即觸發(fā)聲光報警，同時聯(lián)動控制系統(tǒng)切斷不合格水的供應，避免超標水進入晶圓清洗、光刻等核心工序，防止批量芯片因雜質污染報廢。

2. 替代人工，保障數(shù)據(jù)連續(xù)性

   離線檢測需人工取樣、送樣、分析，單次流程至少 30 分鐘，無法覆蓋 24 小時生產(chǎn)。在線式分析儀可 24 小時不間斷運行，自動記錄數(shù)據(jù)并生成趨勢曲線，完整追溯每一時段的水質情況，滿足半導體行業(yè)嚴格的質量追溯要求（如 ISO 14644 潔凈室標準）。

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2、關鍵應用場景：覆蓋超純水制備全流程

• 場景 1：反滲透（RO）膜出口

  作用：監(jiān)測 RO 膜的截留效率（正常情況下 RO 需去除 99% 以上鈣鎂離子）。若數(shù)據(jù)突然升高，說明膜可能存在破損或污染，需及時停機更換膜組件，避免后續(xù)精制環(huán)節(jié)負荷過載。

• 場景 2：混床離子交換柱出口

  作用：混床是深度除鹽的核心環(huán)節(jié)，需確保其出水鈣鎂離子≤0.1μg/L。在線式分析儀可實時判斷樹脂是否飽和，當數(shù)據(jù)接近閾值時，自動觸發(fā)樹脂再生程序，無需人工判斷，避免樹脂失效導致水質超標。

• 場景 3：超純水終端用水點（如晶圓清洗機入口）

  作用：這是 “最后一道防線"。即使前序環(huán)節(jié)達標，管道輸送過程中也可能因腐蝕、接頭泄漏引入雜質。在線式分析儀在此處監(jiān)測，可確保進入生產(chǎn)設備的超純水 100% 合格，直接保障芯片制造過程的安全性。

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3、對半導體生產(chǎn)的間接價值：降本增效與合規(guī)保障

1. 優(yōu)化工藝參數(shù)，降低運行成本

   通過分析儀記錄的鈣鎂離子濃度趨勢曲線，可精準判斷樹脂再生周期、膜清洗頻率。例如，無需按固定時間再生樹脂，而是根據(jù)實際離子濃度數(shù)據(jù)觸發(fā)再生，能延長樹脂使用壽命（通常可延長 20%-30%），減少化學藥劑（如鹽酸、氫氧化鈉）的消耗。

2. 滿足行業(yè)合規(guī)與數(shù)據(jù)追溯要求

   半導體行業(yè)需符合 SEMI（國際半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會）標準，要求超純水水質數(shù)據(jù)可實時查詢、追溯。在線式分析儀可自動存儲至少 1 年的檢測數(shù)據(jù)，支持導出報表，輕松應對客戶審計或行業(yè)監(jiān)管檢查，避免因數(shù)據(jù)不完整導致合規(guī)風險。